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2014年9月23日，上海市高级人民法院就“钜锐案”——作出终审判决，驳回上诉人钜泉光电科技（上海）股份有限公司、深圳市锐能微科技有限公司的上诉请求，维持原判，即一审法院判决的锐能微公司应立即停止侵害钜泉公司享有的ATT7021AU集成电路布图设计专有权，并赔偿钜泉公司经济损失等共320万元。这是上海也可能是中国首例集成电路布图设计纠纷案。

TRIPS协定和我国《集成电路布图设计保护条例》均对独创性的布图设计提供保护，禁止未经许可复制该布图设计。

该案中，法院正确地做出了两个区分。首先是区分了认定侵犯布图设计权的标准与认定侵犯著作权的标准，其次是区分了布图设计与实现布图设计的工艺。法院认为四个电容呈田字型的排列方式是三维配置，而用几个阱放置电容则是工艺，也即实现布图设计的方式，本身不是布图设计，并认定被告复制了原告的布图设计。
　　法院澄清了判断布图设计侵权的法律标准，使布图设计者了解了合理借鉴与抄袭在先设计之间的界限，这对于合理地保护布图设计、促进集成电路产业的发展提供了充足的法律支持，增强了我国集成电路布图设计创新的定力。